磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。

样品要求

1.样品尺寸要求：样品尺寸最小需大于1*1cm,仪器可镀的最大尺寸为6英寸

2.样品非粉末，不掉粉，不掉渣，高温镀膜的样品需要耐高温