SEM 简介
扫描电子显微镜 (SEM) 通过扫描物体表面来创建高分辨率图像,从而产生物体的详细放大图像。
SEM 使用聚焦电子束来实现这一目的。
生成的图像显示了物体的组成及其物理特征的信息。
获取有关成分和地形信息的仪器是扫描电子显微镜。
SEM 是一种实用且有用的工具,应用范围广泛,涉及多个行业和领域。它可以分析人造材料和天然材料。
SEM 期间会发生什么?
扫描电子显微镜的工作原理是使用电子束扫描样本。电子枪发射电子束,然后电子束沿扫描电子显微镜的柱状线加速。
在此过程中,电子束穿过一系列透镜和光圈,起到聚焦的作用。
这是在 真空条件下发生的,真空条件可防止显微镜柱中已经存在的分子或原子与电子束相互作用。
这确保了高质量的成像。
真空还可以保护电子源免受振动和噪音的影响。
电子束以光栅模式扫描样品,从一侧到另一侧、从上到下以线的形式扫描表面区域。
电子与样品表面的原子发生相互作用。这种相互作用会产生样品特有的二次电子、背散射电子和射线形式的信号。
显微镜中的探测器拾取这些信号并在计算机屏幕上显示高分辨率图像。
扫描电子显微镜如何工作?
用于 SEM 的仪器包括以下组件:
- 电子源
- 阳极
- 聚光透镜
- 扫描线圈
- 物镜。
电子源在显微镜柱的顶部产生电子。
阳极板带正电荷,吸引电子形成光束。
聚光镜控制光束的大小,并决定光束中的电子数量。光束的大小将决定图像的分辨率。
光圈也可用于控制光束的大小。
扫描线圈使光束沿 x 轴和 y 轴偏转,以确保它以光栅方式扫描样品表面。
物镜是产生电子束的透镜序列中的最后一个透镜。作为最靠近样品的透镜,它将电子束聚焦到样品上非常小的点上。
电子无法穿过玻璃,因此 SEM 镜头是电磁镜头。它们由金属杆内的线圈组成。
当电流通过这些线圈时,它们会产生 磁场。
电子对这些磁场高度敏感,因此显微镜中的镜片能够控制它们。
什么是背散射电子和二次电子
当显微镜下的电子与样本相互作用时,会产生不同种类的其他电子、光子和辐射。
成像所必需的两种电子是背散射电子 (BSE) 和二次电子 (SE)。
- 当原电子束与样品物体相互作用时,背散射电子会被反射回来。这些是弹性相互作用。
- 二次电子则不同,因为它们来自样品的原子,是非弹性相互作用的结果。
这些弹性和非弹性相互作用之间有什么区别?
- 弹性相互作用发生在初级电子没有能量损失的情况下,当这种情况发生时,电子可以改变方向,但不会改变其波长
- 当相互作用导致初级电子能量损失时,就会发生非弹性相互作用。
BSE 和 SE 包含不同类型的信息。BSE 源自样本的较深区域,而 SE 则来自表面区域。
BSE 的图像对原子序数的差异表现出很高的敏感性,原子序数的差异会显示得更亮或更暗。
SE 图像包含更详细的表面信息。
扫描电子显微镜需要不同类型的背散射电子和二次电子探测器。
通常,对于 SE,这将是一个 Everhart-Thornley 探测器。它由法拉第笼内的闪烁体组成。该探测器带正电以吸引 SE。
为了检测 BSE,显微镜将使用放置在样品上方的固态探测器
是什么产生了 SEM 中使用的电子?
SEM 仪器使用三种方式产生电子:
- 场发射枪——可产生强大的电场,将电子从原子中拉出来并生成高分辨率图像。它采用真空设计。
- 热电子灯丝 – 在显微镜内,钨丝会升温至白热,直至发射电子。在高温条件下,其寿命约为 100 小时。
- 六硼化铈阴极 - 亮度是钨的十倍,该电子源提供了更高的信噪比、更好的比率,并且寿命超过 1,500 小时。
电子显微镜与光学显微镜有何不同?
在光学显微镜中,您可以使用光和透镜组合来放大图像。
这使得你能够观察诸如细胞之类的小物体,但是你可以达到的放大倍数是有限的,因此你可以分析的材料和物质也是有限的。
电子显微镜的不同之处在于它不是使用光束,而是使用电子束。
电子显微镜可以克服光学显微镜的局限性,因为它们使用更短的波长,从而产生更好的图像分辨率。
在光线适量的情况下,人眼无需使用镜片就能区分相距 0.2 毫米的两个点。
这个距离就是眼睛的分辨率。
光学显微镜可以放大这种分辨率,使得眼睛可以看到相距小于 0.2 毫米的点。
光学显微镜的最大放大倍数约为 1000 倍。镜头的数量和质量限制了其能力。但另一个因素也限制了其分辨率,这个因素就是光线。
白光的波长为400至700nm(纳米)。
平均波长为500nm。这给出了理论分辨率检测限约为200至250nm。
因此,波长是光学显微镜分辨率的一个限制因素。电子显微镜克服了这一问题,因为电子的波长较短,分辨率更高。
使用 SEM 可实现的最大分辨率取决于多种因素,例如电子点大小和电子束与样品的相互作用体积。
有些扫描电子显微镜可以实现1nm以下的分辨率。
全尺寸仪器通常产生 1 至 20nm 之间的分辨率,而台式型号将产生 20nm 或更高的分辨率。
SEM 分析优势
扫描电子显微镜 (SEM) 是故障分析的重要工具,可帮助工程师和科学家调查和了解材料和组件故障背后的原因。
SEM 在故障分析中的应用如下:
- 详细表面成像:SEM 可提供失效材料表面的详细图像,使分析人员能够检查断裂表面、裂纹、腐蚀或任何其他可见损坏。SEM 的高放大倍数和分辨率有助于揭示失效特征的形态和地形。
- 微观结构分析:SEM 可以检查材料的微观结构。通过适当准备样品(例如通过抛光和蚀刻),分析人员可以研究晶粒结构、相分布以及可能导致故障的任何微观结构异常。
- 元素成分分析:SEM 可以进行能量色散 X 射线光谱 (EDS) 或 X 射线微分析,这有助于识别和量化失效材料的元素成分。该分析可以揭示可能导致失效的杂质、污染物或合金成分变化。
- 断裂表面分析:SEM 可让研究人员分析失效部件的断裂表面。通过检查断裂模式、裂纹扩展模式以及疲劳条纹或延性撕裂等特定特征的存在,分析师可以确定失效机制并了解失效是否是由于过载、疲劳或其他因素造成的。
- 腐蚀分析:在发生与腐蚀相关的故障时,SEM 可以提供有关腐蚀产物、腐蚀形态和腐蚀损坏程度的宝贵信息。这有助于识别腐蚀剂、评估腐蚀机制并指导预防措施。
- 异物分析:有时,异物的存在会导致部件故障。SEM 可以检查和识别材料表面或内部的异物或污染物,从而深入了解它们的来源以及对故障的潜在影响。

